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本发明的目的在于提供一种在浸液曝光方法中，折射率大于纯水，防止光致抗蚀膜或其上层膜成分的洗脱或溶解，能够抑制抗蚀图案生成时的缺陷的浸液曝光用液体、以及利用该液体的浸液曝光方法。一种浸液用曝光液体，其在通过投影光学系统的透镜和基板之间充满的液...
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