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本发明公开了一种用于半导体晶圆制备的高纯度的多晶硅溶解设备，涉及硅晶体制造设备技术领域，包括壳体，壳体顶部设置有进料组件，壳体内部设置有溶解腔，壳体一侧固定连接有电动伸缩缸，溶解腔中设置有连接板，电动伸缩缸的端部贯穿壳体并与连接板固定连接，...
该专利属于江苏纳沛斯半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏纳沛斯半导体有限公司授权不得商用。

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