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一种简单器件被用于使在装置中的温度均匀并被用于改进与反应气体，硒和硫的接触的状态。将作为用于气氛均匀化的器件的风扇（３）放置于装置中，并且将工件以可使反应气体平稳循环的方式放置。即，平坦的板状工件（２）在一定间距下彼此远离地放置，其平行于所...
该专利属于昭和砚壳石油株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过昭和砚壳石油株式会社授权不得商用。

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