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一种重布线层结构及其构造方法技术
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文档序号:32358101
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本发明涉及芯片封装技术领域,提出一种重布线层结构及其构造方法。该结构包括第一聚酰亚胺层和第一重布线层,其中所述第一聚酰亚胺层具有第一过孔;一个或者多个第二聚酰亚胺层和第二重布线层,其中所述第二聚酰亚胺层具有第二过孔;以及第三聚酰亚胺层,其中...
该专利属于上海先方半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海先方半导体有限公司授权不得商用。
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