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本发明提供一种抗蚀剂基底处理液和使用该处理液形成图形的方法，能够同时容易地解决诸如基底表面上外来杂质、图形坍塌和图形粗糙的问题。处理液包含水和具有含１１～３０个碳原子的烃基的伯胺或氨的烯化氧加合物。本发明的图形形成方法包括用该处理液处理显影...
该专利属于AZ电子材料（日本）株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过AZ电子材料（日本）株式会社授权不得商用。

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