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一种双控温氢氟酸气相刻蚀装置，一种对反应体和硅片衬底的温度分别可控的刻蚀装置。本发明提出的氢氟酸气相刻蚀装置主体包括一个具有温度调节及工作气体均匀性控制的反应腔体、样品台和一个利用控温液及相应传输通道对样品进行温度控制的控温液体腔室。通过加...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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