温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供基板处理装置及基板处理方法。在利用处理液对基板进行处理之后，在溶剂环境中使基板干燥的基板处理装置具有：处理槽，用于储存处理液；保持机构，用于保持基板，至少能够在处理槽内的处理位置与位于处理槽上方的干燥位置之间移动；腔室，用于包围处理槽的...
该专利属于大日本网屏制造株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大日本网屏制造株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。