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本发明揭露一种低温多晶硅驱动电路及薄膜晶体管的制作方法，包括提供基板、形成有源层、形成栅极绝缘层、形成具有延伸部的介电层，以及形成栅极电极。上述栅极电极及介电层的延伸部可同时形成，且作为掩模，使得可以一次掺杂工艺，同时形成轻掺杂源／漏极区域...
该专利属于统宝光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过统宝光电股份有限公司授权不得商用。

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