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本发明提供一种曝光装置，在通过使基板和掩模相对移动来进行图案曝光时，可对非曝光区域适当地遮光。在曝光区域的曝光中，通过对该曝光用的光ＥＬ横切遮光构件（２０）并向上游侧移动，不管曝光区域个数，使用一个遮光构件（２０）都可以避免非曝光区域的曝光...
该专利属于日本精工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本精工株式会社授权不得商用。

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