曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置，在通过使基板和掩模相对移动来进行图案曝光时，可对非曝光区域适当地遮光。在曝光区域的曝光中，通过对该曝光用的光ＥＬ横切遮光构件（２０）并向上游侧移动，不管曝光区域个数，使用一个遮光构件（２０）都可以避免非曝光区域的曝光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种曝光装置，例如涉及对在液晶显示器及等离子显 示器等大型平板显示器的基板上曝光复制掩模上的掩蔽图案适合的曝 光装置。
技术介绍
用于大型的薄型电视等的液晶显示器、等离子显示器等大型平板 显示器通过利用分割逐次曝光方式，在基板上接近曝光复制掩模的图 案来制造。作为现有这种分割逐次曝光装置，例如众所周知，使用比 作为被曝光材料的基板小的掩模，由掩模台保持该掩模，同时由工件 台保持基板，将两者近接对置配置，以该状态使工件台相对于掩模步 进移动，在每一步从掩模侧对基板照射图案曝光用的光，在基板上曝 光复制描绘于掩模上的多个掩蔽图案，在一片基板上制作多个显示器 等。特别是，用专利文献1的技术，通过使比其小型的掩模和光源同 步移动，就可以给大型的基板曝光掩模的图案。专利文献l:特开平11-237744号公报但是，在从大型的玻璃基板切出多个面板时，给与面板对应的玻 璃基板上的区域曝光复制曝光图案，但与相邻的面板彼此之间对应的 区域是不应照射曝光用的光的非曝光区域。因此，可以考虑，通过在 光源和玻璃基板之间设置遮光构件，用以覆盖非曝光区域，使曝光用 的光不能到达非曝光区域。但是，在从一片玻璃基板切出的面板的种 类和数量不同时，不能与其对应地设置多种形状的遮光构件，从而存 在增加成本及增大空间的等问题。
技术实现思路
于是，本专利技术是鉴于这样现有技术的课题而研制的，其目的在于 提供一种曝光装置，通过使基板和掩模相对移动，在进行图案曝光时， 可使用遮光构件将非曝光区域适当地遮光。上述目的通过以下结构实现。(1) 一种曝光装置，其特征在于具有 照射部，该照射部照射曝光用的光；基板驱动部，该基板驱动部保持具有曝光区域和非曝光区域的基 板，横切由所述照射部射出的曝光用的光并使该基板向规定方向移动；配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差 的方向上延伸、遮光的第一遮光构件；第一驱动部，该第一驱动部使所述第一遮光构件移动遮挡将自所 述照射部射出的曝光用的光的位置；配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差 的方向上延伸、遮光的第二遮光构件；第二驱动部，该第二驱动部保持所述第二遮光构件，并将该第二 遮光构件相对于所述第一遮光构件独立地移动到遮挡所述照射部射出 的曝光用的光的位置，所述第一驱动部驱动所述第一遮光构件，以使其在从所述照射部 向所述曝光区域照射光的期间，至少一次地横切所述照射部射出的光， 并向所述规定方向的反方向移动，所述第二驱动部根据所述第一遮光构件的动作，驱动所述第二遮 光构件。(2) 如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件具 有一个带状的遮光部，所述第二遮光构件具有两个带状的遮光部。(3) 如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件在 所述规定方向上的宽度是可变的。(4) 如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件配 合中间成像区域，以形成边缘。(5) 如(1)所述的曝光装置，其特征在于根据所述第一遮光构 件的速度或加速度，遮挡从所述照射部朝向所述曝光区域的一部分光。(6) 如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一及第二驱动 部驱动所述第一及第二遮光构件，使所述基板在曝光区域的曝光量恒 定。(7) 如(6)所述的曝光装置，其特征在于， 所述基板的曝光区域具有横截部分，在将光从所述照射部向所述曝光区域照射的期间，通过移动所述第一遮光构件横切来自所述照射 部的光，该横截部分遮光，所述第一及第二驱动部驱动所述第一及第二遮光构件，使得所述 曝光区域的曝光量与该横截部分的曝光量相等。根据本专利技术的曝光装置，所述第一驱动部驱动所述第一遮光构件， 使其在从所述照射部向所述曝光区域照射光的期间，至少一次横切来自所述照射部的光，并向所述规定方向的反方向移动，因此，可以仅 仅用单个第一遮光构件就可以适当地遮光，使曝光用的光不能到达非曝光区域而不管其宽度及个数。另外，由于是小型轻量的结构，故实 现了曝光装置整体的简化、小型化。另外，由于所述第二驱动部根据 所述第一遮光构件的动作驱动所述第二遮光构件，故例如在所述第一 遮光构件横切来自所述照射部的光并向所述规定方向的反方向移动 时，通过配置所述第二遮光构件遮蔽来自所述照射部的一部分光，可 抑制曝光量的偏差。优选的是，所述第一遮光构件具有一个带状的遮光部，所述第二遮光构件具有两个带状的遮光部。所述第二遮光构件也可以为-字状 或口字状。所述第一遮光构件在将所述规定方向的宽度设为可变时，可进行 适当地遮光而与非曝光区域的宽度无关。另外，若横切来自所述照射 部的光并向所述规定方向的反方向移动时减小宽度，则也可以抑制曝 光区域上的曝光量下降。所述第一遮光构件配合中间成像区域而形成边缘时，可抑制边界 的模糊，所以是所希望的。根据所述第一遮光构件的速度或加速度将自所述照射部朝向所述 曝光区域的一部分光遮光时，可横切来自所述照射部的光并抑制向所 述规定方向的反方向移动时的曝光量的减少。附图说明图1是第一实施方式的曝光装置的俯视图2是表示本实施方式的曝光装置曝光时的状态的侧视图3是表示遮帘和孔径构件和基板的立体图4是在Z轴方向观察到的遮光板20、孔径构件30和基板W的图。图5是表示曝光动作的流程图6是遮光板20的移动的时间图7是在Z轴方向看到的基板W的图8是变形例的遮光板20的移动的时间图9是变形例的遮光板20的移动的时间图10是变形例的遮光板20的移动的时间图11是变形例的遮蔽光板20的移动的时间图12是变形例的遮光板20的移动的时间图13是在Y轴方向看到的另一变形例的遮光板20的图；图14是在Y轴方向看到的又一变形例的遮光板20的图。符号说明1 基座2 基板卡盘 2a 轨道10保持装置11臂12保持部13 Z轴移动装置14 e轴移动装置15 Y轴移动装置 20 遮光板20a 20d 薄板条构件21、 22 板材30 孔径构件31、 32 纵向构件33、 34 横向构件35连接构件EG 边缘EL 曝光用的光ER1 曝光区域ER2 曝光区域ER3 曝光区域FP 中间成像位置GS1 导轨GS2 导轨L掩模输送路线LM1、 LM2 线性电动机LS 光源M 掩模NR1非曝光区域 NR2非曝光区域 NR3非曝光区域 NR4非曝光区域 OPU 曝光组件具体实施例方式下面，参照附图对本专利技术的最佳实施方式进行说明。图1是本实 施方式的曝光装置的俯视图，图2是表示本实施方式的曝光装置曝光 时的状态的侧视图。另外，以下的实施方式中，假设在X轴方向和Y 轴方向规定水平面，在Z轴方向规定垂直方向。图1中，在基座1上，大片薄板状的基板W由基板卡盘(基板驱 动部)2把持，沿轨道2a与基板卡盘2—同自左向右可移动。在基座1 上，夹着掩模输送路线(也称作掩模输送路径)L在左侧(上游侧)配 置有7个、在右侧(下游侧)配置有6个(合计13个)吸附保持掩模 M的保持装置10。夹着掩模输送路线L锯齿状交互配置由保持装置10 保持的比基板W小型的掩模M。另外，图1中，左侧的7个保持装置 10和右侧上起3个保持装置IO位于曝光位置，右侧下起3个保持装置 IO位于掩模交接位置。另外，图1中，MS1、 MS2为掩模储存器，RBT 为输送机器手，AM表示输送臂。各保持装置IO具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于具有：　照射部，该照射部照射曝光用的光；　基板驱动部，该基板驱动部保持具有曝光区域和非曝光区域的基板，横切由所述照射部射出的曝光用的光并使该基板向规定方向移动；　配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差的方向上延伸、遮光的第一遮光构件；　第一驱动部，该第一驱动部使所述第一遮光构件移动遮挡将自所述照射部射出的曝光用的光的位置；　配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差的方向上延伸、遮光的第二遮光构件；　第二驱动部，该第二驱动部保持所述第二遮光构件，并将该第二遮光构件相对于所述第一遮光构件独立地移动到遮挡所述照射部射出的曝光用的光的位置，　所述第一驱动部驱动所述第一遮光构件，以使其在从所述照射部向所述曝光区域照射光的期间，至少一次地横切所述照射部射出的光，并向所述规定方向的反方向移动，　所述第二驱动部根据所述第一遮光构件的动作，驱动所述第二遮光构件。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐治伸仁，
申请(专利权)人：日本精工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]