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沟槽金属氧化物场效应晶体管及其制造方法技术
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文档序号:3232562
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本发明涉及一种沟槽金属氧化物场效应晶体管,其能够减小寄生电容,从而增加开关速度,本发明还涉及一种制造所述沟槽金属氧化物场效应晶体管的方法。所述沟槽金属氧化物场效应晶体管包括:上面依次形成有外延层和主体层的基层;垂直形成在外延层和主体层的中央...
该专利属于美格纳半导体有限会社所有,仅供学习研究参考,未经过美格纳半导体有限会社授权不得商用。
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