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本发明提供了基底处理装置和输送基底的方法。该基底处理装置包括：具有双层结构的第一处理单元，在该第一处理单元中，沿垂直方向布置有进行涂敷过程的第一处理部和进行显影过程的第二处理部；第一缓冲单元，其提供让已在所述第一处理部中处理过的基底等待的位...
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