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本申请公开了一种粉料加料装置,具体涉及一种碳化硅粉料的加料装置,属于半导体材料制备技术领域。该粉料加料装置,包括:给料机构,所述给料机构设置于装料件上方,用于向所述装料件内输送所述粉料;压料机构,所述压料机构包括压料盘,所述压料盘进入所述装...该专利属于山东天岳先进科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东天岳先进科技股份有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种粉料加料装置,具体涉及一种碳化硅粉料的加料装置,属于半导体材料制备技术领域。该粉料加料装置,包括:给料机构,所述给料机构设置于装料件上方,用于向所述装料件内输送所述粉料;压料机构,所述压料机构包括压料盘,所述压料盘进入所述装...