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本实用新型属于半导体器件和集成电路表面有机钝化用新设备。其特征在于选用了波长为２—１５μｍ范围的远红外线辐射源，并用真空减压、连续充氮气的方法，使得整个恒温亚胺化过程，始终产生断续变化的远红外线辐照，达到阶梯升温、恒温、迅速排除反应生成聚缩...
该专利属于南京工学院所有，仅供学习研究参考，未经过南京工学院授权不得商用。

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