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一种沉积室衬垫，该沉积室用于处理基板，具有底部及侧壁，且被室体盖覆盖以形成封闭空间，该侧壁上的适当位置设置有挂钩，衬垫具有呈矩形封闭外形的框体，覆盖沉积室的侧壁的内表面，该矩形框体具有四个侧边及四个角落，预定高度，以及至少１５５０毫米长及至...该专利属于罗宾.泰诺;恩斯特.凯勒;栗田伸一;约翰.M.怀特所有，仅供学习研究参考，未经过罗宾.泰诺;恩斯特.凯勒;栗田伸一;约翰.M.怀特授权不得商用。