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沟槽高压P型金属氧化物半导体管制造技术
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文档序号:3228004
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本实用新型公开了一种沟槽高压P型金属氧化物半导体管,包括兼做衬底的P型漏区,在P型漏区上设有P型外延,在P型外延上设有N型阱,在N型阱上设有P型源区和N型接触孔,在N型阱及P型外延内设有沟槽,在沟槽内填充有二氧化硅,在沟槽内还设有多晶硅栅且...
该专利属于东南大学所有,仅供学习研究参考,未经过东南大学授权不得商用。
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