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本发明公开了一种标准单元库边缘单元的版图布局设计方法，其包括以下步骤：步骤一，根据对应标准单元库的基本参数和流片厂家提供的设计规则文件中最小设计规则，确定边缘单元的基本参数；步骤二，根据所述边缘单元的基本参数和版图设计规则，设计所述边缘单元...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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