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一种湿法化学腐蚀装置，用以腐蚀介质薄膜，特别适用于半导体器件生产工艺中Ｓｉ－［３］Ｎ－［４］介质膜的湿法腐蚀，可耐２００℃高温．在腐蚀容器［２］上的盖子［１］内侧布满回形冷却管［３］，当腐蚀液加热时，管子接通冷却水，这样因受热产生的腐蚀液蒸...
该专利属于航天工业部七七一研究所所有，仅供学习研究参考，未经过航天工业部七七一研究所授权不得商用。

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