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本发明公开了一种FinFET的寄生电容测试结构中,FinFET包括栅极结构、由第一导电类型轻掺杂区组成的浅掺杂源区和浅掺杂漏区、侧墙、由第一导电类型重掺杂区组成的源区和漏区、第二导电类型阱区和由第二导电类型重掺杂区组成的体引出区。FinFE...该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种FinFET的寄生电容测试结构中,FinFET包括栅极结构、由第一导电类型轻掺杂区组成的浅掺杂源区和浅掺杂漏区、侧墙、由第一导电类型重掺杂区组成的源区和漏区、第二导电类型阱区和由第二导电类型重掺杂区组成的体引出区。FinFE...