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一种等离子体输送设备，包括：设置在输送设备的外表面中的等离子体源，外表面被布置成面向待处理的基板；传送机构，被配置为相对于彼此传送基板和外表面；等离子体源包括气体入口，用于向等离子体生成空间提供气流；等离子体生成空间，其流体耦合到布置在外表...
该专利属于荷兰应用自然科学研究组织TNO所有，仅供学习研究参考，未经过荷兰应用自然科学研究组织TNO授权不得商用。

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