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本申请涉及一种外延基板及其制作方法。该外延基板包括衬底、缺陷阻挡层和纳米图形层，缺陷阻挡层设置于衬底的一侧，纳米图形层设置于缺陷阻挡层远离衬底的一侧，且该纳米图形层由至少一层纳米级颗粒构成，纳米级颗粒使纳米图形层远离衬底的一侧具有凹凸表面。...
该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。

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