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本实用新型属于半导体器件平面光刻工艺领域，特别是涉及用于双面光刻的工具制造技术领域。本实用新型为了保证制备双面膜的感光胶厚度的均匀性和避免对膜造成的机械损伤，从而提供一种由匀胶机片托和台阶型样品光刻架，通过光刻架两端的固定槽用螺钉把匀胶机片...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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