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双晶片覆晶体制造技术
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文档序号:3224669
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一种双晶片覆晶体。为提供一种成本低、占用电路板空间小、符合环保意识的半导体元件,提出本实用新型,它包括以背对背叠置的第一晶片及第二晶片;第一晶片及第二晶片正面具有焊垫区,并于焊垫区上设有复数以供打线的焊垫。...
该专利属于胜开科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过胜开科技股份有限公司授权不得商用。
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