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光刻工艺包括在衬底上旋涂保护层并将掩膜图形转移到保护层上而后进行曝光，及在图形被曝光后在衬底上形成该图形．当保护层显影图形因加保护层工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时，将参数的值设置到与脉动的极值相符．...
该专利属于株式会社日立制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立制作所授权不得商用。

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