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本发明是对半导体器件、电路芯片表面进行处理分析的重要方法。该方法是针对离子注入掺杂后，在芯片上不留任何痕迹这一困难而提出来的。它包括样品制备、显示液配方及操作程序三方面内容。该方法显示的成功率达１００％。具有适用范围广、对环境温度要求不高、...
该专利属于复旦大学所有，仅供学习研究参考，未经过复旦大学授权不得商用。

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