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利用难熔金属覆盖低电阻率金属导线或通路是为实际采用化学－机械抛光技术创造条件，因为难熔金属的坚硬、低磨损性能，在化学－机械抛光过程不会受擦伤、浸蚀或弄脏。采用物理汽相淀积（例如，蒸发或准直溅射）低电阻率金属或合金之后接着化学汽相淀积（ＣＶＤ...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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