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半导体器件的静电泄放结构制造技术
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文档序号:3222299
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半导体器件静电泄放结构,包括P型杂质掺杂的半导体衬底;在半导体衬底一定区域中形成的N型阱;在N型阱一定区域中形成的P型槽阱;在N型阱表面形成并且掺杂浓度高于N型阱的N型有源保护环;在P型槽阱的表面形成并且掺杂浓度高于P型槽阱的P型有源保护环...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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