下载用栅电极易处置隔层形成单边缓变沟道半导体器件的方法的技术资料

文档序号:3222212

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一种形成单边缓变沟道场效应晶体管以及晶体管堆叠结构的方法包括提供带有覆盖的栅电极(14,16)的衬底(10)。只在该栅电极的漏侧形成一个隔层(23)。在与该栅电极的源侧对准的情况下形成一个缓变沟道区(36),而该隔层保护该沟道区的漏侧。形成...
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