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本发明涉及薄膜制备技术领域，特别涉及双面超导薄膜材料制备技术。本发明的目的是为了提高热利用效率，降低加热器的功率要求，避免淀积双面膜时损坏薄膜，提供一种在真空淀积设备中使用的热辐射加热器的加热面与基片之间距离缩短至０．１－１０ｍｍ之间的措施...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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