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减少了延迟变动的场效应晶体管制造技术
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下载减少了延迟变动的场效应晶体管的技术资料
文档序号:3221992
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在具有第一导电类型的沟道、源和漏区的化合物半导体层内设置减少了延迟变动的场效应晶体管。在上述的区域上分别形成栅、源和漏电极。特别是栅电极设有在与所述源和漏区的相对方向交叉的方向上延伸的伸出部分,并从沟道区伸出。在该化合物半导体层中,形成与第...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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