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一种用于从基片上除去粘附粒子的基片洗涤方法，该方法包括：（１）用氨水－过氧化氢水洗涤；（２）用超纯水漂洗；（３）使用含有阴离子表面活性剂的氢氟酸洗涤；以及（４）用超纯水漂洗。...
该专利属于大金工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大金工业株式会社授权不得商用。

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