下载半导体器件的凸出电极形成方法的技术资料

文档序号:3221981

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一种半导体器件的凸出电极形成方法,其特征是,具有下述工序:粘接剂处理工序,用于把粘结剂附加到半导体器件的焊盘电极上边;焊锡小粒附着工序,用于使一个或二个以上的焊锡小粒附着于已附加了粘结剂的部分上;以及焊锡熔融工序,用于熔融焊锡小粒以形成凸出...
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