温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种制造字线的方法，首先在一硅基片上，形成一些栅极。之后在栅极之上依序形成一金属硅化物层与一富硅层，其中，富硅层可以是一具有较高硅浓度的金属硅化物，或是一纯硅层。以此方法制得字线包括富硅层、金属硅化物层与多晶硅层。...
该专利属于联华电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。