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本发明的目的是提供一种在干燥处理时不受药液处理的恶劣影响，能够实现设计自由度高，清洗装置高速化及装置小型化的清洗装置及清洗方法。该装置构成是，将干燥室４２和清洗槽４１分别上下分离，同时使干燥室４２的空间与清洗槽４１的空间可以由氮气幕５９ｃ及...
该专利属于东京电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京电子株式会社授权不得商用。

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