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一种半导体器件包括:多个第一场效应晶体管(FET),其栅极形成于半导体衬底主表面上,其漏极和源极形成于栅极两侧的区域;多个第二FET,其栅极形成于半导体衬底的主表面上,其漏极和源极形成于栅极两侧的区域;穿过成对FET之间区域的半导体衬底的主...该专利属于NEC化合物半导体器件株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过NEC化合物半导体器件株式会社授权不得商用。
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一种半导体器件包括:多个第一场效应晶体管(FET),其栅极形成于半导体衬底主表面上,其漏极和源极形成于栅极两侧的区域;多个第二FET,其栅极形成于半导体衬底的主表面上,其漏极和源极形成于栅极两侧的区域;穿过成对FET之间区域的半导体衬底的主...