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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:3221137
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一种对布线上的等离子体SiOF氧化层有良好键合性能并对掩埋布线间隔部位有良好掩埋性能的半导体器件。它在半导体衬底上淀积形成一层要作布线基底的金属层,在金属层上淀积形成一层难熔金属或其化合物的抗反射层,并在抗反射层上淀积形成一层绝缘层。之后,...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。
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