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晶片处理液，是在２０～６０ｗｔ％的氢氟酸中，是将以下至少一种以０．１～１０００ｐｐｍ溶解，剩余部分为水，合计１００ｗｔ％所组成的，Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ＋１］ｐｈ（ＳＯ↓［３］Ｍ）Ｏｐｈ（ＳＯ↓［３］Ｍ），其中ｐｈ为亚苯基，ｎ为５～２０，Ｍ表...
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