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本发明讲述了一种构造方法，它至少可用于一种需要进行构造的薄膜，它包括以下步骤：准备好需要进行构造的薄膜，在需构造的薄膜上面放上一种掩膜，对需构造的薄膜进行干蚀。本发明方法的特征在于，掩膜含有一种金属硅化物，金属氮化物或金属氧化物等。...
该专利属于西门子公司所有，仅供学习研究参考，未经过西门子公司授权不得商用。

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