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用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺制造技术
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文档序号:3220596
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一种光掩模具有一个用一条遮光带(11a/11b)实现的主图形(11)以及一个用半透明带(12a-12f)实现的副图形(12),遮光带与半透明带的宽度相等,以致能使遮光带接近分辨率而不损坏副图形的效应。...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。
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