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一种材料的汽化和供给装置，其中在控制的流速下将用于ＣＶＤ的液体材料引入到汽化器内，通过设置在汽化器内部或外部的超声波雾化装置雾化，通过载体气体的循环气流加热并汽化。当用于ＣＶＤ的液体材料提供到制造半导体的ＣＶＤ装置时，在汽化中材料的浓度容易...
该专利属于日本派欧尼股份株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本派欧尼股份株式会社授权不得商用。

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