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文档序号:3219972
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在分配给双极型晶体管的第一有源区和分配给场效应晶体管的第二有源区上制造双MOS电路,因为高温热处理破坏了场效应晶体管的源/漏区的杂质面,在所述双极型晶体管形成后制造场效应晶体管,为隔开发射区和发射极,在淀积一厚硅氧化物层前用阻蚀层覆盖部分场...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。
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