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提供了一种具有低介电常数且其性能足以胜任作为半导体装置的中间层绝缘膜的一种绝缘膜，和使用该绝缘膜的半导体装置。用作半导体装置的中间层绝缘膜的一种半导体装置绝缘膜，该绝缘膜主要由聚－α，α－二氟亚对二甲苯组成并具有２．１－２．７的相对介电常数...
该专利属于岸本产业株式会社;第三化成株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过岸本产业株式会社;第三化成株式会社授权不得商用。

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