下载利用单元库方式进行布局设计的半导体集成电路装置的技术资料

文档序号:3219400

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预先在连通单元(40)及顶盖单元(41)中形成由栅电极(13)和一对P型扩散层(10a、10b)和N型扩散层(11a、11b)构成的基本对。由此,因为即使在制成布局图之后产生了设计变更,也可由上述基本对形成逻辑电路,故可灵活地与设计变更相对...
该专利属于三菱电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱电机株式会社授权不得商用。

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