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本发明公开了一种晶片加工用表面绝缘处理装置及方法，包括处理箱和设置其内部用于对晶片进行固定的夹持机构以及用于对晶片进行喷涂处理的喷涂机构，所述处理箱一侧设有取料箱，取料箱内部设有缓存腔，所述取料箱上端口配合设有一个活动门，所述活动门转动设置...
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