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本实用新型涉及一种提高靶材利用率的磁控溅射镀膜源装置，包括位于真空腔室内的用于装配靶材的溅射靶座，用于向真空腔室内通入溅射工艺气体的布气组件，溅射靶座上设置有磁控主体，磁控主体包括磁体安装座和磁体安装座上安装的磁条组件，磁条组件包括长条形的...
该专利属于安徽纯源镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽纯源镀膜科技有限公司授权不得商用。

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