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光刻校正的方法技术
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文档序号:3218454
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一种光刻校正的方法,用当图形呈现一凹角21时,所显像后的光刻胶便会有残留,反之,如为一凸角时,便会有过蚀的情形,推衍出首先将集成电路分割,而后对每一分割块的四个角进行分析,判断此四个角与周围的图形间为凸角、或凹角、或是平坦状态,而后依其状态...
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