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根据本发明的湿处理装置由以下部分组成：化学处理池，其中储存有用来处理晶片表面的化学物质；晶片运送器，用于将晶片从化学处理池的内部运进和运出；传感器，确定化学处理池内化学物质中的气泡量并发出第一和第二控制信号；以及清洗池，其中储存有蒸馏水以用...
该专利属于恩益禧电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩益禧电子股份有限公司授权不得商用。

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