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本发明涉及一种制备薄膜的方法，它包括以下几个步骤：通过第一个基质层（１０）的表面和通过第二个基质层（２０）的表面注入几种气体，这就能够在这些基质层中生成微型空腔（１１，２１）为每个基质层限定出一个薄层（１３，２３）它处在这些微腔与受注入面之...
该专利属于法国原子能委员会所有，仅供学习研究参考，未经过法国原子能委员会授权不得商用。

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