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一种用于形成半导体膜的化学汽相淀积设备，它包括：一侧反应管，此管包括一用于在其上放置基层的基座；一圆形加热器，它用于对所述基层进行加热；以及，一气体入口，它用于引入包含有至少一种源气体的气体，所述入口设置成基本上与所述基层相平行，其中，所述...该专利属于日本派欧尼股份株式会社;德岛酸素工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本派欧尼股份株式会社;德岛酸素工业株式会社授权不得商用。