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场效应控制的晶体管及其制造方法技术
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文档序号:3217165
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在半导体衬底(2)中安排了具有分别邻接在半导体衬底(2)的一个主面(1)上的一个源极区,一个沟道区和一个漏极区的一个有源区。在半导体衬底(2)的主面中安排了至少一个沟槽,此沟槽邻接在沟道区上,并且在此沟槽中布置了栅电极的部分(8)。尤其是栅...
该专利属于因芬尼昂技术股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过因芬尼昂技术股份公司授权不得商用。
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